惊呆了

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中国成功突破半导体10nm光刻机 中国公司5nm已经登顶全球?中国造出和光刻机并重的半导体设备

访客

科技带动市场发展,消费者决定了市场需求,我国芯片市场需求量非常大,但是因为美国的打压,对光刻机等出口的限制和制裁等,我国的芯片生产技术一直没能达到世界领先,而且生产的芯片量产有限,制程的先进程度也是跟在发达国家后面追赶。


现在和光刻机并重的半导体设备蚀刻机,由我国公司建造的该机械生产5纳米芯片技术已经登顶全球先进行列,随着未来3纳米制程的实现,我国的芯片技术也将会迎来更加喜人的飞跃和成就。

目前中国台湾台积电能量产5nm制程的芯片,而且订单都排到了好久之后,甚至今年因为光刻机的供货问题,没能及时上马3nm制程的芯片产品,很多厂家都只好继续使用5纳米的芯片,相信明年将会换代为3纳米芯片而且完成量产的可能,台积电还设置了两个厂区进行生产,对于芯片巨头来说,订单像雪片一样飞来,都发愁生产不过来。


那么韩国的三星也是在芯片领域发展到7纳米制程的技术,并且也在繁忙的加工订单中,作为我国大陆公司对于芯片的研发和建造,稍显迟后一些。

尤其我国的华为公司在准备大展宏图的时候,被美国不择手段进行卑劣打压和制裁,甚至封杀华为的5G技术,还让英国等已经安装了华为网络的国家,必须把华为建设好的网络都进行拆除。

美国这些无耻行为,对华为的发展造成了事业寒冬,也对我国的芯片领域造成了很大的不利影响。


因为美国控制着欧盟国家的贸易,先进的光刻机不同意出口给我国,就没办法研发建造更加先进制程的芯片,换言之建造芯片的机器缺乏,被美国卡脖子限制了,尤其先进的光刻机更是采购不到,空手无法实现芯片的升级换代。

但是中国却有着制造芯片最重要的武器的一半法宝,所谓一半之说,是指建造芯片需要用到光刻机和蚀刻机,两种机械并列重要,我国的蚀刻机技术已经达到了全球先进水平,登顶世界领先的地位。


就连几个半导体巨头,其中包括三星,台积电等公司,都在使用我国的等离子蚀刻机进行生产。

说到蚀刻机,虽然在建造工艺和加工总体难度要求方面,蚀刻机要略逊于光刻机,但是蚀刻机也是生产芯片必不可少的设备之一,只不过两种机械的加工工艺有所不同,光刻机是把精度极高的图形等刻制到硅片上,而蚀刻机是把多余的部分腐蚀掉。

我国生产精度达到5纳米设备蚀刻机的企业,就是中微公司,去年营收为31亿,创造了令人瞩目的销售业绩,充分说明在很多国家的合作中,我国的蚀刻机质量已经赢得了很多认可和需求。


中微公司蚀刻机的生产技术水平,目前已经追赶美日韩公司,能进入全世界前三名。

这已经是非常了不起的成绩,代表着中国科研工作者的努力和探索,并且在发展过程中,还遇到了欧美国家的打压和封锁,日本也凑热闹进行无理取闹,但是我国的中微公司克服了重重困难。

经过了这些恶性竞争的残酷考验,靠着产品的优异性能依然屹立于全球市场,终于靠产品实力发展起来,并且代表中国蚀刻机交出了优异的答卷,不仅在产品研发方面进行自主知识产权的构建,还在不断升级和更新蚀刻机的性能和参数,求得更高质量的机械和更高精度的生产水平。


在这个远大目标的引领下,从最初的6.5纳米制程精度的瓶颈,突破后跃升到5纳米制程的精度实现,如今中微公司已经成为世界范围内除了美国最厉害的蚀刻机公司,占据全球蚀刻机市场的百分之十五,还和全球的芯片半导体巨头公司都展开了稳定的合作,拓展更多的合作业务,具备强大的世界级科技公司的实力。

中微公司见证了中国半导体行业的沉浮,我国从最初的没有任何自主研发的能力,厂家所有产品的需求全从国外进口芯片,到现在我国已经能够自主生产5纳米制程的芯片,甚至还有团队在研发量子芯片,一旦能够攻克生产难题走出实验室实现量产,将会出现石破天惊般的收获,倒是很可能绕开西方国家的光刻机,而具备自主生产芯片的能力。


如果真能实现,我国的芯片领域将会呈现欣欣向荣的新局面,并且会引领世界上生产芯片新工艺的风潮。

标签: 光刻